應(yīng)用場(chǎng)景:適用于G6H及以上量產(chǎn)蒸鍍系統(tǒng)的多種有機(jī)材料蒸鍍的線(xiàn)源和用于Mg、Ag、LiF、Yb 和Al材料蒸鍍的點(diǎn)源
產(chǎn)品特點(diǎn)
– 標(biāo)準(zhǔn)化
– 模塊化
– 成膜均勻性高
– 材料利用率高
– 穩(wěn)定運(yùn)營(yíng)時(shí)間長(zhǎng)
核心技術(shù)
– 高精密溫度控制技術(shù)
– 長(zhǎng)時(shí)間運(yùn)營(yíng)穩(wěn)定性
– 真空熱系統(tǒng)蒸鍍模擬技術(shù)